记忆障碍——方琛宇个展

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艺术中国 | 时间: 2011-04-15 11:33:45 | 文章来源: 艺术中国

 

展览时间:2011年4月21日至5月21日

开幕酒会:2011年4月21日(星期四) 晚上6时至8时

展览地点: 香港中环善庆街1号Gallery EXIT安全口画廊

开放时间: 星期一至六 1100-1900

Gallery EXIT 安全口画廊将举行方琛宇的首个画廊个展 -《记忆障碍》。展览将展示方氏的录像装置新作。作品利用多个屏幕,展示不同的零碎片段,影片取至各种影像纪录装置,超八米厘摄影机,视讯摄影机,数码摄影机,照相机及电话。影像主要描绘不同人物的脸孔,他们从不同的屏幕中出现,然后消失。

回忆是根据相关的心理状态,或是按照时序而出现?方氏对回忆的随机性产生疑问。他以个人经历作为蓝本,借着动态影像的显现与消褪,编织记忆与想象的经验。片段中渗透情感的场景,都是源自他个人面对的内心冲突,以及探求未知的青涩冲动。借着这些零碎的叙事片段,方氏提出问题:我们会否想忘记?

方氏现于香港中文大学修读艺术硕士课程。他的录像、装置及新媒体作品曾于亚洲及欧洲的展览及放映会展示。他于2009年获香港当代艺术双年奖 - 青年艺术家奖, 其作品亦获澳门艺术馆中国行为艺术文献收藏。

艺术家将会出席开幕酒会。

 

简 介

 

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