[新闻]三影堂展出“存在与阐释：光刻”陈伟立个展

2009年8月1日至8月22日,美籍华裔艺术家陈伟立摄影版画作品系列《存在与阐释》在草场地艺术区三影堂摄影艺术中心展出。他的作品将摄影和绘画融为一体。每幅作品融合了与手绘线描结合在一起的摄影影像。

陈伟立作品展览经历：

2009年 “陈伟立：浮雕腐蚀版画” 个展，伊阿华州德梅因艺术中心 策展人：帕特里西亚·希克逊，康涅狄格州哈特福德华兹华斯图书馆艺术博物馆当代艺术策展人。

“2009新版画”，群展 伊利诺伊州芝加哥哥伦比亚大学南方图形学协会 策展人：罗贝塔·瓦德尔，纽约公共图书馆摄影与版画前策展人

2008年 “黑白变奏”，群展 纽约布鲁克林音乐学院

“2008新版画/秋季”，群展 纽约国际版画中心 评委：雅各·路易斯，纽约佩斯版画中心主任

“2008年明尼苏达国立版画双年展” 明尼苏达州明尼苏达州立大学

2007年 “复合型人才国际评选赛” 佛罗里达州塔拉哈斯佛罗里达州立大学美术馆

“彼此联络”，群展 纽约布鲁克林肯特勒国际绘画空间

“2007新版画/春季”，群展 纽约国际版画中心 评委：詹姆斯·西耶拿

2006年 “陈伟立与维克多利亚·格洛-拉波波特：版画艺术” 宾夕法尼亚州华盛顿与杰斐逊学院

“2005新版画/秋季” 纽约国际版画中心/伊利诺伊州芝加哥哥伦比亚大学 评委：南西·普林森塔尔，批评家、作家，《美国艺术》编辑

“物象/基底”，复合媒体展 纽约布鲁克林肯特勒国际绘画空间 由卡特·福斯特评选，纽约惠特尼美国艺术博物馆绘画策展人